一种机械化学研磨垫运输结构
基本信息
| 申请号 | CN202121579985.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214986751U | 公开（公告）日 | 2021-12-03 |
| 申请公布号 | CN214986751U | 申请公布日 | 2021-12-03 |
| 分类号 | B65D6/08（2006.01）I;B65D81/02（2006.01）I;B32B25/00（2006.01）I;B32B9/02（2006.01）I;B32B9/04（2006.01）I;B32B3/28（2006.01）I;B32B9/00（2006.01）I;B32B33/00（2006.01）I;B32B25/04（2006.01）I | 分类 | 输送；包装；贮存；搬运薄的或细丝状材料; |
| 发明人 | 姚力军;潘杰;惠宏业;王学泽;李力平 | 申请（专利权）人 | 上海江丰平芯电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京远智汇知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王岩 |
| 地址 | 201400上海市奉贤区奉浦工业区奉浦大道111号5楼2427室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种机械化学研磨垫运输结构，包括底板和设置于所述底板底面的滚动组件；所述底板的上表面边缘设置有支撑件；所述支撑件用于固定运载板；所述运载板表面设置有缓冲层；所述缓冲层包括依次设置的第一橡胶层、麻层、硅胶层、弹性结构层和第二橡胶层；所述弹性结构层的厚度＜所述硅胶层的厚度＜所述第一橡胶层的厚度＝所述第二橡胶层的厚度＜所述麻层的厚度；所述硅胶层表面为波浪形结构。通过采用特定的结构组成的缓冲层，可以保证在运输过程中遭遇振动等颠簸的情况下研磨垫不会变形，进而提高抛光的效果，同时提高抛光的成品率，减少原料的损耗，降低了产品的报废率，将机械化学研磨成品率提升至98％以上。 |
