一种圆顶式微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置
基本信息
申请号 | CN201310674092.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN103668127B | 公开(公告)日 | 2015-12-30 |
申请公布号 | CN103668127B | 申请公布日 | 2015-12-30 |
分类号 | C23C16/511(2006.01)I;C23C16/27(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 唐伟忠;苏静杰;李义锋;刘艳青;丁明辉;李小龙;姚鹏丽 | 申请(专利权)人 | 河北普莱斯曼金刚石科技有限公司 |
代理机构 | 北京金智普华知识产权代理有限公司 | 代理人 | 河北普莱斯曼金刚石科技有限公司 |
地址 | 050081 河北省石家庄市友谊南大街46号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种圆顶式微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置,适用于高功率微波输入下高品质金刚石膜的快速制备。谐振腔主体由圆顶反射体、金属薄板反射体、石英环窗口、圆柱反射体和沉积台所组成。金属薄板反射体可以阻挡微波向谐振腔顶部的传播,使微波更多地聚集于基片上方。沉积台分为中心沉积台和边缘沉积台两部分,二者的独立上下移动功能利于实现等离子体状态的快速优化。石英环窗口隐藏于谐振腔壁形成的狭缝间,既可以躲避等离子体的刻蚀,又利于谐振腔真空性能的提高。另外,良好的水冷系统设计保证了设备在高功率下运行的安全。诸多的优点汇集到一起,使得该圆顶式微波等离子体化学气相沉积装置具备在高功率水平下高速沉积高品质金刚石膜的能力。 |
