一种椭球形高功率微波等离子体金刚石膜沉积装置专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种椭球形高功率微波等离子体金刚石膜沉积装置

基本信息

申请号	CN201410383700.3	申请日	-
公开（公告）号	CN104164658B	公开（公告）日	2016-08-24
申请公布号	CN104164658B	申请公布日	2016-08-24
分类号	C23C16/27(2006.01)I;C23C16/511(2006.01)I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	唐伟忠;李义锋;苏静杰;刘艳青;丁明辉;王歌	申请（专利权）人	河北普莱斯曼金刚石科技有限公司
代理机构	北京市广友专利事务所有限责任公司	代理人	河北普莱斯曼金刚石科技有限公司
地址	050081 河北省石家庄市友谊南大街46号
法律状态	-

摘要

本发明为一种椭球形高功率微波等离子体金刚石膜沉积装置，该装置由阶梯状环形微波耦合系统、设置于环形天线阶梯处的环形石英微波窗口、椭球形微波谐振腔、可调节沉积台、圆锥形上反射体和可调节圆柱形下反射体，进出气口，测温孔和观察窗等组成。此装置利用椭球的上下焦点设计，圆锥形上微波反射体位于上焦点，沉积台位于下焦点，电场分布集中，激发等离子体位置稳定、密度高；隐藏的微波窗口避免被等离子体加热、污染、刻蚀；可调节的微波下反射体和沉积台实时地优化等离子体分布；椭球形谐振腔内壁距离高温等离子体区较远，减弱等离子体对腔室内壁的热辐射，避免沉积异物；装置各部件采用水冷。此装置可在高功率下实现大面积高品质金刚石膜的高效沉积。