一种氮化镓异质结二极管制备方法及二极管

基本信息

申请号 CN202011532080.7 申请日 -
公开(公告)号 CN112652535A 公开(公告)日 2021-04-13
申请公布号 CN112652535A 申请公布日 2021-04-13
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 杨勇;张光亚;朱勇华;付国振 申请(专利权)人 深圳市美浦森半导体有限公司
代理机构 中山市科企联知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 杨立铭
地址 518000广东省深圳市南山区招商街道水湾社区太子路22号金融中心大厦1601
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种氮化镓异质结二极管制备方法及二极管,其制备方法包括以下步骤:制备一二氧化硅‑氮化镓‑氮化镓铝外延片衬底,依次淀积氮化铝层和二氧化硅层;曝光刻蚀氮化铝层和二氧化硅层,露出二维电子气的位置;内镀上一层二氧化硅层;曝光刻蚀露出氮化镓铝层,形成源极孔和漏极孔;沉积一复合金属钛铝镍金层;曝光刻蚀掉步骤S10中的二氧化硅层,露出氮化铝层形成一个栅极引线孔,淀积一铝层,形成氮化镓器件的异质结;顶部镀上一层二氧化硅层作为绝缘层,并曝光刻蚀该二氧化硅层露出源极孔和漏极孔;沉积一铝层,形成氮化镓异质结二极管器件源极和漏极。通过以上方法制得的二极管功率密度输出高,能量转换效率高,可使系统小型化、轻量化。