一种氮化镓异质结二极管制备方法及二极管
基本信息
申请号 | CN202011532080.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112652535A | 公开(公告)日 | 2021-04-13 |
申请公布号 | CN112652535A | 申请公布日 | 2021-04-13 |
分类号 | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 杨勇;张光亚;朱勇华;付国振 | 申请(专利权)人 | 深圳市美浦森半导体有限公司 |
代理机构 | 中山市科企联知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 杨立铭 |
地址 | 518000广东省深圳市南山区招商街道水湾社区太子路22号金融中心大厦1601 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种氮化镓异质结二极管制备方法及二极管,其制备方法包括以下步骤:制备一二氧化硅‑氮化镓‑氮化镓铝外延片衬底,依次淀积氮化铝层和二氧化硅层;曝光刻蚀氮化铝层和二氧化硅层,露出二维电子气的位置;内镀上一层二氧化硅层;曝光刻蚀露出氮化镓铝层,形成源极孔和漏极孔;沉积一复合金属钛铝镍金层;曝光刻蚀掉步骤S10中的二氧化硅层,露出氮化铝层形成一个栅极引线孔,淀积一铝层,形成氮化镓器件的异质结;顶部镀上一层二氧化硅层作为绝缘层,并曝光刻蚀该二氧化硅层露出源极孔和漏极孔;沉积一铝层,形成氮化镓异质结二极管器件源极和漏极。通过以上方法制得的二极管功率密度输出高,能量转换效率高,可使系统小型化、轻量化。 |
