压后分析方法、电子设备及存储介质
基本信息
| 申请号 | CN202110024544.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114741979A | 公开（公告）日 | 2022-07-12 |
| 申请公布号 | CN114741979A | 申请公布日 | 2022-07-12 |
| 分类号 | G06F30/28（2020.01）I;E21B43/26（2006.01）I;G06F113/08（2020.01）N;G06F119/14（2020.01）N | 分类 | 计算；推算；计数; |
| 发明人 | 周彤;李凤霞;王海波;贺甲元;刘长印;潘林华;李小龙 | 申请（专利权）人 | 中国石油化工股份有限公司石油勘探开发研究院 |
| 代理机构 | 北京思创毕升专利事务所 | 代理人 | - |
| 地址 | 100728北京市朝阳区朝阳门北大街22号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提出了一种压后分析方法、电子设备及存储介质。压后分析包括：计算各压裂段的沿程‑射孔摩阻Pwell‑perf和迂曲摩阻Ptort；计算沿程‑射孔摩阻系数α和迂曲摩阻系数β；确定沿程‑射孔摩阻系数梯度最小值λmin；计算各压裂段的射孔摩阻系数ζn和射孔摩阻Pperf‑n；计算各压裂段的沿程摩阻Pwell‑n和沿程摩阻系数ηn。该方法利用压裂施工现场实际数据，通过分析主压裂停泵压力降落曲线变化特征，可以定量评价水平井压裂过程中沿程摩阻、射孔摩阻与迂曲摩阻。 |
