压后评价方法、电子设备及存储介质
基本信息
| 申请号 | CN202110025881.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114741980A | 公开（公告）日 | 2022-07-12 |
| 申请公布号 | CN114741980A | 申请公布日 | 2022-07-12 |
| 分类号 | G06F30/28（2020.01）I;E21B43/26（2006.01）I;G06F113/08（2020.01）N;G06F119/14（2020.01）N | 分类 | 计算；推算；计数; |
| 发明人 | 周彤;王海波;李凤霞 | 申请（专利权）人 | 中国石油化工股份有限公司石油勘探开发研究院 |
| 代理机构 | 北京思创毕升专利事务所 | 代理人 | - |
| 地址 | 100728北京市朝阳区朝阳门北大街22号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提出了一种压后评价方法、电子设备及介质。压后分析方法包括：计算沿程‑射孔摩阻Pwell‑perf和沿程‑射孔摩阻系数α；确定沿程‑射孔摩阻系数梯度最小值λmin；计算各压裂段停泵瞬时时刻的射孔摩阻系数ζn和射孔摩阻Pperf‑n；根据第n压裂段暂堵球封堵前后施工压力变化，计算暂堵球的封堵射孔孔眼效率ηn。该方法可以为水力压裂施工现场投球暂堵的压后效果进行实时评价，同时以及后续投球方案优化提供理论依据与技术支撑。 |
