一种低电容肖特基二极管的制造方法
基本信息
申请号 | CN201110000638.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN102129988A | 公开(公告)日 | 2011-07-20 |
申请公布号 | CN102129988A | 申请公布日 | 2011-07-20 |
分类号 | H01L21/329(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 杨忠武;朱江 | 申请(专利权)人 | 黑龙江八达通用微电子有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 150078 黑龙江省哈尔滨市开发区迎宾路集中区天平路6号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种低电容肖特基二极管的制造方法,通过氮气气氛扩散工艺,在外延层上表面形成杂质浓度连续降低的轻掺杂层。本发明的低电容肖特基二极管的制造方法,工艺简单易于生产,可对器件的电参数特性进行进一步优化。 |
