一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法
基本信息
| 申请号 | CN202110898386.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113416393B | 公开（公告）日 | 2022-03-18 |
| 申请公布号 | CN113416393B | 申请公布日 | 2022-03-18 |
| 分类号 | C08L67/02（2006.01）I;C08L63/10（2006.01）I;C08L51/08（2006.01）I;C08G63/183（2006.01）I;C08G63/86（2006.01）I;C08G63/87（2006.01）I;C08J3/22（2006.01）I;C08J5/18（2006.01）I | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 段旻;刘勤学;姚孝平;孔云飞;马强;杨彩怡 | 申请（专利权）人 | 常州勤邦新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 南京勤行知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 陈烨 |
| 地址 | 213200江苏省常州市金坛区龙湖路9号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及聚酯母粒技术领域，尤其是一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法，包括以下步骤：1）将100份对苯二甲酸、130份乙二醇和0.001‑0.002份醋酸钠配制成浆料，然后转移至酯化反应釜中进行酯化反应，然后加入0.02‑0.05份乙醇锑和对甲苯磺酸的复合催化剂、10‑20份第三单体依次进行预缩聚反应和终缩聚反应，在终缩聚反应阶段加入0.001‑0.002份磷酸三甲酯，2）终缩聚结束降温过程中加入光固化单体和光引发剂，最后将终聚物卸到冷却池，切片得到聚酯母料；本发明中的聚酯母料在后续制备光学基膜的时候，可以通过辐照步骤提高光学基膜的硬度，从而可以降低抗粘连剂的添加，从而降低光学基膜的折射率，得到高透光低雾度的光学基膜。 |
