一种解决硅片扩散边缘损伤的方法

基本信息

申请号 CN202010913135.2 申请日 -
公开(公告)号 CN112002664B 公开(公告)日 2021-05-25
申请公布号 CN112002664B 申请公布日 2021-05-25
分类号 H01L21/673(2006.01)I;H01L21/225(2006.01)I 分类 -
发明人 汪良恩;王锡康;姜兰虎;尹红 申请(专利权)人 山东芯源微电子有限公司
代理机构 山东瑞宸知识产权代理有限公司 代理人 吕艳芹
地址 250200山东省济南市章丘区清源大街北段路西
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种解决硅片扩散边缘损伤的方法,主要涉及硅片生产制造技术领域,包括载体舟和放置在载体舟上的硅片,在所述载体舟上设有与硅片紧密接触的隔离膜,所述隔离膜隔离膜由60%‑80%氧化铝或碳化硅粉料、20%‑40%纤维素粘合剂混合成的浆料喷涂干燥制成的膜状物,隔离膜铺放于载体舟与硅片的接触点位置,隔离膜在升温过程,纤维素粘合剂逐渐分解燃烧挥发,碳化硅或氧化铝粉料形成固体孔隙结构,起到隔离作用。