一种半导体处理系统中的流体脱泡装置和方法
基本信息
| 申请号 | CN201310368461.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104415579B | 公开（公告）日 | 2016-03-16 |
| 申请公布号 | CN104415579B | 申请公布日 | 2016-03-16 |
| 分类号 | B01D19/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分类 | 一般的物理或化学的方法或装置; |
| 发明人 | 程虎 | 申请（专利权）人 | 上海芯源微企业发展有限公司 |
| 代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人 | 沈阳芯源微电子设备有限公司;沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
| 地址 | 201306 上海市浦东新区临港新片区旭日路501号1幢201、202室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于半导体处理系统中对流体处理的技术领域，具体地说是一种半导体处理系统中的流体脱泡装置，包括：缓冲容器、介质容器、超声波换能器、换能器控制部、总控制部；所述缓冲容器浸入介质容器的介质中，超声波换能器安装于介质容器外壁，并与换能器控制部连接；换能器控制部与总控制部连接；其方法包括：总控制部根据各检测器的反馈信息控制超声波换能器和各自动阀使缓冲容器内的流体完成脱泡处理。本发明可以不占用单独时间进行流体的脱泡，并且工作时缓冲容器内压力恒定，保证出液口的流量恒定，液体供给、气体排放均为自动控制，本发明效率高、稳定性好、控制方便。 |
