一种高稳定的CMP抛光液
基本信息
| 申请号 | CN202110444766.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113214741B | 公开（公告）日 | 2022-03-11 |
| 申请公布号 | CN113214741B | 申请公布日 | 2022-03-11 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 王继宝;周翠苹 | 申请（专利权）人 | 深圳市撒比斯科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京维正专利代理有限公司 | 代理人 | 魏坤宇 |
| 地址 | 518000广东省深圳市宝安区西乡街道固戍航城大道固戍工业区C1栋A座四楼1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及化学机械抛光的领域，具体公开了一种高稳定的CMP抛光液。高稳定的CMP抛光液，每100重量份的抛光液中包括磨料20‑50份、pH调节剂0.3‑8份、聚醚多元醇2‑5份、羟基丁酸0.005‑0.008份、表面活性剂0.01‑0.15份、余量为水。本申请的高稳定的CMP抛光液具有抛光速率稳定性高的优点。 |
