一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110445740.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113201284B | 公开（公告）日 | 2022-03-11 |
| 申请公布号 | CN113201284B | 申请公布日 | 2022-03-11 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I;C09G1/14（2006.01）I;C09G1/16（2006.01）I;C09G1/18（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 王继宝;周翠苹 | 申请（专利权）人 | 深圳市撒比斯科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京维正专利代理有限公司 | 代理人 | 魏坤宇 |
| 地址 | 518000广东省深圳市宝安区西乡街道固戍航城大道固戍工业区C1栋A座四楼1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及化学机械抛光的领域，具体公开了一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法。高抛光度CMP抛光液，每100重量份的抛光液中包括磨料10‑45份、pH调节剂2‑7份、表面活性剂0.03‑0.3份、水溶性环糊精0.5‑2.5份、聚乙二醇0.03‑0.15份、水补足100份；其制备方法为：将磨料与水混合均匀后依次投入水溶性环糊精和聚乙二醇混合均匀，接着投入pH调节剂和表面活性剂混合均匀制得高抛光度CMP抛光液。本申请的高抛光度CMP抛光液具有抛光度高的优点。 |
