外延片承载装置和化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202122182922.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215757732U | 公开（公告）日 | 2022-02-08 |
| 申请公布号 | CN215757732U | 申请公布日 | 2022-02-08 |
| 分类号 | C30B25/12（2006.01）I;C30B25/10（2006.01）I;C30B25/16（2006.01）I;H01L21/683（2006.01）I;C30B28/14（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 程凯;刘凯 | 申请（专利权）人 | 苏州晶湛半导体有限公司 |
| 代理机构 | 北京布瑞知识产权代理有限公司 | 代理人 | 秦卫中 |
| 地址 | 215123江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号西北区20幢517-A室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种外延片承载装置和化学气相沉积设备，涉及气相沉积领域。该外延片承载装置包括位于衬底和加热部件之间的石墨盘以及与石墨盘可拆卸连接的高度调整部件，其中，上述石墨盘用于承载衬底，上述高度调整部件用于调整衬底相对于加热部件的放置角度。本实用新型实施例通过设置与石墨盘可拆卸连接的高度调整部件，实现了利用高度调整部件调整衬底相对于加热部件的放置角度的目的，消除了衬底底面与加热部件顶面之间的角度偏差，使衬底底面与加热部件顶面平行，进而使衬底不同区域的受热程度相同，提高了衬底不同区域温度的均匀性，进而提高了衬底上所生长的外延片的质量。 |
