发光器件、发光器件的模板及其制备方法
基本信息
申请号 | CN201980097776.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114072895A | 公开(公告)日 | 2022-02-18 |
申请公布号 | CN114072895A | 申请公布日 | 2022-02-18 |
分类号 | H01L21/20(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 程凯;张丽旸 | 申请(专利权)人 | 苏州晶湛半导体有限公司 |
代理机构 | 北京布瑞知识产权代理有限公司 | 代理人 | 秦卫中 |
地址 | 215123江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号西北区20幢517-A室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种发光器件、发光器件的模板及其制备方法,通过在衬底(1)上设置GaN基半导体层(2)和掩膜层(3),其中掩膜层(3)包括多个间隔设置的掩膜开孔,且使用GaN基半导体层(2)填充掩膜开孔;并且在多个间隔设置的掩膜开孔内的GaN基半导体层(2)表面设置牺牲层(4),利用间隔设置掩膜开孔,可以直接在掩膜开孔上形成间隔的发光单元(5),避免侧壁刻蚀,提高了发光器件的发光效率,并且通过刻蚀牺牲层(4)来剥离发光器件,实现模板的重复利用,降低成本。 |
