超深地下空间开发中的双层止水帷幕结构及其施工方法
基本信息
| 申请号 | CN202111591003.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114059571A | 公开（公告）日 | 2022-02-18 |
| 申请公布号 | CN114059571A | 申请公布日 | 2022-02-18 |
| 分类号 | E02D19/18（2006.01）I;E02D19/10（2006.01）I;E02D17/04（2006.01）I;E02D33/00（2006.01）I;E02D29/16（2006.01）I | 分类 | 水利工程；基础；疏浚; |
| 发明人 | 王卫东;翁其平;李靖;张佶;徐中华 | 申请（专利权）人 | 华东建筑设计研究院有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 200002上海市黄浦区汉口路151号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于城市地下空间开发领域，尤其涉及高地下水位中心城区的超深地下空间开发中的双层止水帷幕结构及其施工方法。基坑的外围依次为基坑围护结构、内止水帷幕和外止水帷幕；内止水帷幕紧贴基坑围护结构设置；内止水帷幕和外止水帷幕之间设有间距。首先可以确保基坑的开挖降水过程不会引起周边地层发生固结沉降；在基坑围护结构和支撑体系受力变形较大的情况下，通过抽降双层止水帷幕间的地下水来减小作用于基坑围护结构上的水压力，可以作为基坑实施过程中的一项安全应急储备；此外，采用双层止水帷幕结构，设计过程中还可以通过适当考虑降低双层止水帷幕之间的地下水位来优化基坑围护结构和支撑体系的截面和配筋，从而节约工程造价。 |
