半导体元件烧结的工艺方法
基本信息
申请号 | CN201110247639.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN102306621A | 公开(公告)日 | 2012-01-04 |
申请公布号 | CN102306621A | 申请公布日 | 2012-01-04 |
分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I;F27B9/30(2006.01)I;F27D9/00(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 陆利新;孙逸;仝韶华;李桂琴 | 申请(专利权)人 | 上海煦康电子科技有限公司 |
代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 上海煦康电子科技有限公司 |
地址 | 200233 上海市徐汇区田林路140号28幢511室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提出一种半导体元件烧结的工艺方法,包括:将半导体元件放置在传输丝网上;开启设置在烧结炉内的红外辐射管;启动所述传输丝网,使所述半导体元件通过所述传输丝网传输到所述烧结炉内,所述烧结炉内的红外辐射管辐射所述半导体元件,使所述半导体元件依次完成烘干、预烧结以及烧结工艺。本发明提供的半导体元件烧结的工艺方法,通过设置在烧结炉炉体内的红外辐射管对半导体元件进行直接加热,采用不同波长的红外辐射管依次完成对半导体元件的烘干、预烧结以及烧结工艺,优化了提供能源的结构,使半导体元件的成品率和产出率得到了提高。 |
