一种连续真空镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201822114804.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209428596U | 公开（公告）日 | 2019-09-24 |
| 申请公布号 | CN209428596U | 申请公布日 | 2019-09-24 |
| 分类号 | C23C14/56;C23C14/02 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 乔晓东;楚殿军;陈静伟 | 申请（专利权）人 | 嘉兴浩宇等离子体科技有限公司 |
| 代理机构 | 杭州永航联科专利代理有限公司 | 代理人 | 嘉兴浩宇等离子体科技有限公司 |
| 地址 | 314100 浙江省嘉兴市嘉善县罗星街道晋阳东路568号5号楼5408室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及镀膜技术领域，本实用新型公开了一种连续真空镀膜设备，包括机架，所述机架处设置有用于对零件进行镀膜的镀膜腔体，所述镀膜腔体两侧分别设置有进料腔体及出料腔体，所述镀膜腔体内设置有将零件排出镀膜腔体的第四输送带，所述机架还设置有用于用于清洗零件的清洗机构、用于烘干零件的烘干机构、用于检测零件镀膜情况并排出零件的检测出料机构，所述清洗机构及所述烘干机构设置于所述进料腔体，所述检测出料机构设置于所述出料腔体。本实用新型达到有效除去零件表面的污染物，提高零件镀膜的合格率。 |
