一种孔槽式的电容结构及制作方法

基本信息

申请号 CN201910366425.7 申请日 -
公开(公告)号 CN110223970B 公开(公告)日 2021-04-30
申请公布号 CN110223970B 申请公布日 2021-04-30
分类号 H01L23/64;H01L23/522;H01L21/48 分类 基本电气元件;
发明人 庄永淳;吴靖;马跃辉;黄光伟;李立中;林伟铭 申请(专利权)人 福建省福联集成电路有限公司
代理机构 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 代理人 徐剑兵;林祥翔
地址 351117 福建省莆田市涵江区江口镇赤港涵新路3688号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开一种孔槽式的电容结构及制作方法,其中方法包括如下步骤:在半导体器件上制作绝缘区域;在绝缘区域的位置制作孔;在孔内壁制作第一金属层;在孔内壁的第一金属层上制作覆盖第一金属层介质层;在孔内壁的介质层上制作第二金属层。本方案可以解决传统平面电容占用半导体器件面积大、容值低的问题。