一种孔槽式的电容结构及制作方法
基本信息
申请号 | CN201910366425.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN110223970B | 公开(公告)日 | 2021-04-30 |
申请公布号 | CN110223970B | 申请公布日 | 2021-04-30 |
分类号 | H01L23/64;H01L23/522;H01L21/48 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 庄永淳;吴靖;马跃辉;黄光伟;李立中;林伟铭 | 申请(专利权)人 | 福建省福联集成电路有限公司 |
代理机构 | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 徐剑兵;林祥翔 |
地址 | 351117 福建省莆田市涵江区江口镇赤港涵新路3688号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开一种孔槽式的电容结构及制作方法,其中方法包括如下步骤:在半导体器件上制作绝缘区域;在绝缘区域的位置制作孔;在孔内壁制作第一金属层;在孔内壁的第一金属层上制作覆盖第一金属层介质层;在孔内壁的介质层上制作第二金属层。本方案可以解决传统平面电容占用半导体器件面积大、容值低的问题。 |
