一种真空镀膜装置
基本信息
申请号 | CN202020100530.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN212983041U | 公开(公告)日 | 2021-04-16 |
申请公布号 | CN212983041U | 申请公布日 | 2021-04-16 |
分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 申屠江民;王连彬;祝宇;龚阳;叶华辉 | 申请(专利权)人 | 浙江莱宝科技有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 321016浙江省金华市婺城区涌雪街333号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供一种真空镀膜装置,包括真空镀膜的腔体、磁钢、靶材、中心加热器与镀膜小车,所述腔体构造出一立方体空间,所述靶材、中心加热器与镀膜小车均设置于所述立方体空间内,所述磁钢设置于所述腔体的外壁上,所述靶材设置于所述腔体的内壁的侧壁上,所述靶材与磁钢在腔体上的投影相对应。所述中心加热器悬挂于腔体内壁的上壁上,所述镀膜小车上搭载有基片,所述基片置于所述中心加热器的一侧,并设置于所述靶材上方50‑100mm的范围内。在所述腔体前段部分还设计有一保温腔结构,所述保温腔的温度条件和所述被溅射镀膜基片所处的温度条件保持一致。使得整个基片的前端与后端溅射镀膜的膜层厚度、膜层透光率、膜层热稳定性与方阻也保持一致。 |
