一种真空镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN202020307349.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213295490U | 公开（公告）日 | 2021-05-28 |
| 申请公布号 | CN213295490U | 申请公布日 | 2021-05-28 |
| 分类号 | C23C14/54(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 申屠江民;祝宇;王连彬;龚阳;杨雄波 | 申请（专利权）人 | 浙江莱宝科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 321016浙江省金华市婺城区涌雪街333号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种真空镀膜装置,包括真空镀膜的腔体、磁钢、靶材、中心加热器与镀膜小车，所述腔体构造出一立方体空间，所述靶材、中心加热器与镀膜小车均设置于所述立方体空间内，所述磁钢设置于所述腔体的外壁上，所述靶材设置于所述腔体的内壁的侧壁上，所述靶材与磁钢在腔体上的投影相对应。所述中心加热器悬挂于腔体内壁的上壁上，所述镀膜小车上搭载有基片，所述基片置于所述中心加热器的一侧。在镀膜过程采用一系列温控手段，提升镀膜基片在磁控溅射过程中的温度均匀性，同时有利于减少成膜过程中出现的薄膜表面缺陷，确保镀膜的稳定性与均匀性。 |
