一种双模组缸套标刻设备
基本信息
| 申请号 | CN202121019152.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214684775U | 公开（公告）日 | 2021-11-12 |
| 申请公布号 | CN214684775U | 申请公布日 | 2021-11-12 |
| 分类号 | B23K26/362（2014.01）I;B23K26/70（2014.01）I;B44B5/00（2006.01）I;B44B5/02（2006.01）I | 分类 | 机床；不包含在其他类目中的金属加工; |
| 发明人 | 张竞;刘鼎;张书毓;汤晓辉 | 申请（专利权）人 | 河南省中原华工激光工程有限公司 |
| 代理机构 | 焦作市科彤知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 杨明环 |
| 地址 | 454750河南省焦作市孟州市产业集聚区淮河大道69号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于缸套标刻设备技术领域，公开了一种双模组缸套标刻设备，包括操作台、缸套固定旋转台、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统，激光标刻系统包括激光标刻头和激光标刻头调节组件，激光标刻头设于激光标刻头调节组件上，且激光标刻头朝向缸套的外侧壁，激光标刻头调节组件可调节激光标刻头的竖直高度及激光标刻头与缸套外侧壁的距离，电磁点阵标刻系统包括电磁点阵标刻头和电磁点阵标刻头调节组件，电磁点阵标刻头设于电磁点阵标刻头调节组件上，且电磁点阵标刻头朝向缸套的上端面，电磁点阵标刻头调节组件可调节电磁点阵标刻头与缸套上端面的距离及电磁点阵标刻头的水平位置。该设备能同时满足不同的标刻需求。 |
