一种具有双层屏蔽罩的阴极弧头
基本信息
| 申请号 | CN202011363720.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112501572A | 公开（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申请公布号 | CN112501572A | 申请公布日 | 2021-03-16 |
| 分类号 | C23C14/48(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 廖斌;庞盼;王国梁;罗军;陈琳 | 申请（专利权）人 | 广东省广新离子束科技有限公司 |
| 代理机构 | 广州圣理华知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董觉非;张凯 |
| 地址 | 510663广东省广州市黄埔区光谱东路179号百事高智慧园C栋101 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种具有双层屏蔽罩的阴极弧头，涉及离子束产生装置领域。该方案包括固定法兰盘、阴极靶材、触发电极、屏蔽系统、辅助阳极板，屏蔽系统包括第一屏蔽罩以及第二屏蔽罩，第一屏蔽罩与第二屏蔽罩均与阴极靶材同轴设置，且第一屏蔽罩与所述第二屏蔽罩均套于阴极靶材外并与阴极靶材之间保持间距，第一屏蔽罩由导磁材料制成，第二屏蔽罩由非导磁材料制成。设置双层屏蔽罩，对阴极靶材上的弧斑点形成更好的约束，使阴极靶材表面均匀烧蚀，提高阴极靶材的利用率，降低阴极靶材更换的频率，减少对生产的影响。 |
