一种离子束沉积设备的冷却辊
基本信息
申请号 | CN202011358107.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN112481583A | 公开(公告)日 | 2021-03-12 |
申请公布号 | CN112481583A | 申请公布日 | 2021-03-12 |
分类号 | C23C14/48(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 廖斌;庞盼;王国梁;罗军;陈琳 | 申请(专利权)人 | 广东省广新离子束科技有限公司 |
代理机构 | 广州圣理华知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董觉非;张凯 |
地址 | 510663广东省广州市黄埔区光谱东路179号百事高智慧园C栋101 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种离子束沉积设备的冷却辊,涉及离子束镀膜领域。该方案包括中空的辊体,所述辊体由外至内依次包括表面导电层、绝缘导热层以及冷却腔,所述表面导电层携带负电荷,所述冷却腔内循环通入、排出冷却流体,或者在所述冷却腔内设置固体冷却介质,所述辊体还包括支撑轴部,所述支撑轴部与所述绝缘导热层固定。在冷辊表面均匀施加电场,改变系统的电场分布,提高镀膜质量,通过绝缘导热层将冷却腔与表面导电层隔离开,支撑轴部与绝缘导热层固定,将表面导电层与冷却腔、支撑轴隔离,能对薄膜进行冷却,并降低触电的风险,消除安全隐患。 |
