一种基于冷喷涂高速沉积技术制备金属钼涂层的方法
基本信息
| 申请号 | CN202011508859.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114645268A | 公开（公告）日 | 2022-06-21 |
| 申请公布号 | CN114645268A | 申请公布日 | 2022-06-21 |
| 分类号 | C23C24/04（2006.01）I;C23C24/08（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 沈艳芳;王吉强;崔新宇;唐俊榕;任宇鹏;景玮晨;熊天英 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 |
| 代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 110016辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种基于冷喷涂高速沉积技术制备金属钼涂层的方法，属于抗高温氧化涂层制备技术领域。该方法具体采用冷喷涂高速沉积技术将烘干后的金属钼粉末沉积到经过表面处理的高温合金基体上，从而获得相成分单一、与基体结合良好的纯金属钼防护涂层。结果表明，冷喷涂高速沉积技术是一种制备纯金属钼涂层的有效方法，较现有金属钼涂层制备工艺相比不仅具有涂层厚度大、致密性高、与基体结合力强、防护效果好等特点，同时还具有涂层基本不存在氧化和涂层的内应力为压应力的主要特点，以及可以实现快速沉积钼涂层、且涂层局部脱落后可进行修复再制造等优点。 |
