一种沉浸式湿法刻蚀装置
基本信息
| 申请号 | CN202023214082.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213660359U | 公开（公告）日 | 2021-07-09 |
| 申请公布号 | CN213660359U | 申请公布日 | 2021-07-09 |
| 分类号 | H01L21/67（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 蒋新;张帆;施利君;宋金林 | 申请（专利权）人 | 苏州晶洲装备科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州根号专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 吕正刚 |
| 地址 | 215500江苏省苏州市常熟市辛庄镇光华环路32号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种沉浸式湿法刻蚀装置，包括盛液托盘，在所述盛液托盘内沿其长度方向设置有若干个传动辊，所述盛液托盘的内壁上可移动地设置有液位传感器，所述液位传感器可沿竖直方向移动，所述液位传感器的设置高度高于传动辊上铜基板的高度，在所述传动辊的上下分别设置有与供液管路相连的若干个送液液刀。本申请能够在保证铜的刻蚀均匀性、形成相对较小坡度角的同时，可有效加快反应速率，同时可有效杜绝铜表面的氧化反应，保证最终产品质量。 |
