一种遮光层、复合膜层及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202210179811.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114551607A | 公开(公告)日 | 2022-05-27 |
申请公布号 | CN114551607A | 申请公布日 | 2022-05-27 |
分类号 | H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/118(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 段志昱;汤三奇;席守智;陈玉霞;王宇;梁永;高孟;何丽丽 | 申请(专利权)人 | 陕西迪泰克新材料有限公司 |
代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 712000陕西省西安市西咸新区秦汉新城周陵新兴产业园区天工一路东段8号-1 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种遮光层、复合膜层及其制备方法,涉及放射性元素探测技术领域,本发明的遮光层,被配制于碲锌镉晶体表面,包括交替层叠的多个第一遮光层和第二遮光层,第一遮光层的致密度大于第二遮光层的致密度,第二遮光层的应力小于第一遮光层的应力。本发明提供的遮光层,通过多个第一遮光层和第二遮光层交替层叠的方式形成,实现了遮光层应力释放的同时,将对遮光层致密度的影响降低到最小,使得上述遮光层可以在低温条件下制备得到较大的厚度,且遮光性较好,与碲锌镉晶体的结合力较高。 |
