一种Ni-P-C-Si-W多元微米晶镀层、镀液及其制备方法
基本信息
申请号 | CN201910723367.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN110484942A | 公开(公告)日 | 2019-11-22 |
申请公布号 | CN110484942A | 申请公布日 | 2019-11-22 |
分类号 | C25D3/56;C22C19/03;C22C32/00;C25D15/00;C23C18/50 | 分类 | 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕; |
发明人 | 鞠辉;苏长伟;张长科;方艳昭 | 申请(专利权)人 | 湖南常德纳菲尔新材料科技有限公司 |
代理机构 | 长沙市融智专利事务所(普通合伙) | 代理人 | 湖南纳菲尔新材料科技股份有限公司;湖南常德纳菲尔新材料科技有限公司 |
地址 | 410000 湖南省长沙市望城经济技术开发区金星路118号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种Ni‑P‑C‑Si‑W多元微米晶镀层、镀液及其制备方法,本发明所得供的镀液具有化学镀/电镀双重作用,可快速稳定的获得微米晶镀层,本发明所提供的镀液是以化学镀镍磷溶液为基础,加入了络合能力强的络合剂,以及具有稳定作用的钨酸钠作为稳定剂,同时加入碳化硅粉,碳化硅粉吸附到阴极表面,为镍磷钨的沉积提高了晶核;碳化硅粉大量且次序地吸附沉积在镍磷镀层上,有效控制了镍磷钨晶核的生长,最终获得了微米晶的Ni‑P‑C‑Si‑W多元微米晶镀层。本发明的制备方法,采用化学镀/电镀双重工艺,操作简单,成本低,电流效率高,深镀能力好;所得镀层具有优良的耐磨性和耐腐蚀性,可以替代六价铬电镀,应用前景广阔。 |
