一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置
基本信息
| 申请号 | CN201810852039.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109055740A | 公开（公告）日 | 2018-12-21 |
| 申请公布号 | CN109055740A | 申请公布日 | 2018-12-21 |
| 分类号 | C22B3/22;C22B3/02;C22B34/14;C25C3/26;C25C7/06 | 分类 | 冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理; |
| 发明人 | 贾文成;胡国静 | 申请（专利权）人 | 东营骐丰钛业科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100160 北京市丰台区南四环西路188号(一区)总部公馆B座2115室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置，在1200℃高温及真空条件下，加热核级电解锆，其中残留的氟化钠、氟化钾、氯化钠、氯化钾等电解质受热熔化，逐步蒸发，形成电解质蒸汽。熔化的电解质在重力的作用下，经石英滤芯过滤，滴落至低温区坩埚内。气化的电解质，扩散至低温区，在水冷璧上冷凝成固体。经过25‑30时高温真空蒸馏处理，核级电解锆中的卤化物残留全部消除干净。然后充入高纯氩气，将蒸馏仓转移至水冷套中进行冷却降温，降低至室温后可获得高纯核级电解锆晶体。 |
