无背景宽场与低损超分辨两用成像装置及成像方法
基本信息
| 申请号 | CN202210602811.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114689558A | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN114689558A | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | G01N21/64（2006.01）I;G02B27/28（2006.01）I;G02B27/58（2006.01）I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 张琪;燕一皓;殷俊;石发展;杜江峰 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 230026安徽省合肥市包河区金寨路96号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种无背景宽场与低损超分辨两用成像装置及成像方法，该装置包括：第一泵浦光单元，用于生成第一波长光束；第二泵浦光单元，用于生成第二波长光束；样品单元，放置有包括荧光信标的待测样品，样品单元用于接收第一波长光束，对荧光信标的电荷态进行初始化，接收第二波长光束，对荧光信标的电荷态进行调制，以及输出经由荧光信标发射的第一波长光束信号、第二波长光束信号和对应于不同电荷态荧光信标的荧光光子信号其中至少之一；收集单元，用于输出经滤波处理得到的目标光子信号；控制单元，用于接收目标光子信号，以及根据目标光子信号生成无背景宽场图像或低损超分辨图像。 |
