一种在基片上快速制备所需形状功能电极层的方法
基本信息
| 申请号 | CN201610752549.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106324922A | 公开（公告）日 | 2017-01-11 |
| 申请公布号 | CN106324922A | 申请公布日 | 2017-01-11 |
| 分类号 | G02F1/1343(2006.01)I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 杨泽新 | 申请（专利权）人 | 贵州乾萃科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡志成知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 史明罡 |
| 地址 | 563000 贵州省遵义市新蒲经济开发区办公室二楼202室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种在基片上快速制备所需形状功能电极层的方法。本发明方法包括如下步骤：(1)在基片上制备功能电极层；(2)在步骤(1)所制备的功能电极层上使用模板印刷的方式直接制备出具有所需形状的抗蚀剂层；(3)将步骤(2)所得基片的功能电极层进行刻蚀处理；(4)将步骤(3)所得刻蚀后的基片上的所需形状的抗蚀剂层去除，得到具有所需形状功能电极的基片。本发明方法工艺简单，采用模板印刷的方式，在功能电极层上制备出具有所需形状的抗蚀剂层的用时很短，且不需要消耗长时间去除多余的抗蚀剂层部分，能够极大地节省所需形状的抗蚀剂层的制备时间，从而缩短所需形状功能电极层的基片的生产时间，提高生产效率。 |
