一种集成电路生产用基片涂层烘干箱

基本信息

申请号 CN202022560469.4 申请日 -
公开(公告)号 CN213670291U 公开(公告)日 2021-07-13
申请公布号 CN213670291U 申请公布日 2021-07-13
分类号 B05D3/04(2006.01)I 分类 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
发明人 庞佳敏 申请(专利权)人 新疆芯团科技集团有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 835000新疆维吾尔自治区伊犁哈萨克自治州霍尔果斯市工业园区电子信息产业园(北京路以西、苏州路以北)
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种集成电路生产用基片涂层烘干箱,包括烘干箱,烘干箱内部开设有驱动腔和烘干腔,烘干腔和驱动腔之间开设有若干进风孔,烘干腔另一内腔壁贯穿烘干箱的外壁开设有若干出风孔,驱动腔的另一内腔壁贯穿烘干箱的外壁开设有进风口,进风口内嵌入固定安装有进风格栅,烘干箱一侧的侧边处通过铰链连接有箱门,箱门贴附在烘干腔的腔口处,驱动腔内固定安装有热风机构,热风机构包括电机和电阻加热棒,电机固定安装在驱动腔远离烘干腔的内腔壁中心位置,电阻加热棒的两端分别与驱动腔的上腔顶和下腔底垂直固定连接,本实用新型一种集成电路生产用基片涂层烘干箱,具有烘干效率高以及烘干效果好的特点。