一种超高比容电极箔及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202110674269.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113470975A | 公开(公告)日 | 2021-10-01 |
申请公布号 | CN113470975A | 申请公布日 | 2021-10-01 |
分类号 | H01G9/045(2006.01)I;H01G9/055(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 游彭飞;陆伟;陈锁斌;冉杰;罗湘平 | 申请(专利权)人 | 新疆众和股份有限公司 |
代理机构 | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 孟阿妮;张小勇 |
地址 | 830000新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市高新区喀什东路18号众和公司科技管理办公室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明为一种超高比容电极箔及其制备方法。一种超高比容电极箔的制备方法,包括:(1)制备烧结箔;(2)发孔:将所述的烧结箔依次进行钝化处理、水洗、一次发孔、水洗、钝化处理、水洗、二次发孔、水洗、钝化处理、水洗、三次发孔、水洗、后处理、水洗、烘干处理,得发孔后的烧结箔;(3)化成处理。本发明所述的一种超高比容电极箔及其制备方法,在烧结箔基础上进行铝球表面发孔形成的结构特征,可使铝球表面积大幅度增加,从而可获得超高静电容量。 |
