一种半导体清洗剂
基本信息
| 申请号 | CN202111496875.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114149877A | 公开（公告）日 | 2022-03-08 |
| 申请公布号 | CN114149877A | 申请公布日 | 2022-03-08 |
| 分类号 | C11D7/12（2006.01）I;C11D7/26（2006.01）I;C11D7/60（2006.01）I | 分类 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛; |
| 发明人 | 吴爱平 | 申请（专利权）人 | 苏州德韬科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州佳捷天诚知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 石俊飞 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市苏站路1599号5号楼601室（V7） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种半导体清洗剂，涉及一种清洗剂领域，包括质量份数为3:2:1:4的A清洗剂、B清洗剂、C清洗剂和水，所述A清洗剂包括丁二酸二甲酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚和乙醇；所述B清洗剂包括甲醇和脂肪酸；所述C清洗剂包括纯碱。本发明能够有效去除半导体上的油污和灰尘，使得去污效果好，同时本申请在清洗半导体后能够快速挥发，加快半导体的干燥速度，同时能够保证不留水痕。 |
