一种半导体低VOCs清洗剂
基本信息
| 申请号 | CN202111497412.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114149869A | 公开（公告）日 | 2022-03-08 |
| 申请公布号 | CN114149869A | 申请公布日 | 2022-03-08 |
| 分类号 | C11D1/66（2006.01）I;C11D3/20（2006.01）I;C11D3/43（2006.01）I;C11D3/60（2006.01）I | 分类 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛; |
| 发明人 | 吴爱平 | 申请（专利权）人 | 苏州德韬科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州佳捷天诚知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 石俊飞 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市苏站路1599号5号楼601室（V7） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种半导体VOCs清洗剂，涉及一种清洗剂领域，包括质量份数为10‑20份的表面活性剂、3‑6份的二乙二醇丁醚、3‑5份的助溶剂、0.5份的缓蚀剂和余量的去离子水。本发明能够去除半导体上的砂粒、切削磨料、指纹及金属离子，且去除能力强，同时本申请对半导体没有腐蚀，使得清洗后的半导体的良品率高。 |
