一种多层结构涂层的制备方法

基本信息

申请号 CN202210217742.4 申请日 -
公开(公告)号 CN114293154B 公开(公告)日 2022-06-10
申请公布号 CN114293154B 申请公布日 2022-06-10
分类号 C23C14/32(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 毛昌海;祖全先;帅小锋 申请(专利权)人 艾瑞森表面技术(苏州)股份有限公司
代理机构 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 -
地址 215331江苏省苏州市昆山市陆家镇金阳东路28号
法律状态 -

摘要

摘要 本申请涉及一种多层结构涂层的制备方法,该制备方法中提供了增加反应气体M的通入流量、以小电流模式开启第二组B靶材或控制靶材门的方案,解决了应用多弧离子镀膜方法沉积多层结构涂层时,膜层之间结合力较弱,容易发生膜层分离剥落的问题。