一种可导电溅射靶材表面的快速自清洁工艺
基本信息
| 申请号 | CN202111442116.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113857159B | 公开（公告）日 | 2022-06-17 |
| 申请公布号 | CN113857159B | 申请公布日 | 2022-06-17 |
| 分类号 | B08B7/00（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 毛昌海;祖全先;帅小锋 | 申请（专利权）人 | 艾瑞森表面技术（苏州）股份有限公司 |
| 代理机构 | 苏州华博知识产权代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 215000江苏省苏州市昆山市陆家镇金阳东路28号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种可导电溅射靶材表面的快速自清洁工艺，包括以下步骤：在常温下将溅射镀膜设备真空抽至1e‑4mBar以内，将溅射镀膜设备的阴极靶门全部打开，用可以正常起辉的阴极点燃氩气，发生辉光放电，并保持高溅射功率；提高电磁辅助线圈电流以增强磁场，使辉光放电区域延伸至待清洁靶材表面附近；开启待清洁靶材阴极，在低功率条件下使靶材起辉，待靶材表面放电稳定后逐步增大溅射功率并保持预设时长，即可完成靶材表面自清洁工艺。本发明提供的自清洁工艺避免拆卸操作，节省了大量人力和时间成本，有效提升了工作效率。 |
