一种金属掩膜版用高精度蚀刻机
基本信息
| 申请号 | CN202011637974.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112853355A | 公开（公告）日 | 2021-05-28 |
| 申请公布号 | CN112853355A | 申请公布日 | 2021-05-28 |
| 分类号 | C23F1/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 钱超;杨柯;牛恩众;余强根 | 申请（专利权）人 | 常州高光半导体材料有限公司 |
| 代理机构 | 济南鼎信专利商标代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 梁国海 |
| 地址 | 213311江苏省常州市溧阳市埭头镇渡头街8-2号13幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种金属掩膜版用高精度蚀刻机，包括箱体，所述箱体的内部活动安装有托板，箱体的背面固定安装有电动伸缩杆，电动伸缩杆的正面固定安装有第一连接筒，第一连接筒的底部固定安装有喷嘴，第一连接筒的顶部连通有第一伸缩软管，第一伸缩软管的顶部连通有喷淋泵，箱体的背面固定安装有气缸，气缸的正面固定安装有第二连接筒，第二连接筒的底部固定安装有喷头，第二连接筒的顶部连通有第二伸缩软管。通过设置的电动伸缩杆和气缸，可以让喷嘴和喷头进行移动，不必再设置大量的喷嘴来对金属掩膜版进行喷射化学药液蚀刻，不仅节省了大量的化学药液，还可以及时的对金属掩膜版进行喷水清理，提高了蚀刻机的工作效率，还降低了生产成本。 |
