一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件
基本信息
| 申请号 | CN202122224788.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215593170U | 公开（公告）日 | 2022-01-21 |
| 申请公布号 | CN215593170U | 申请公布日 | 2022-01-21 |
| 分类号 | C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 钱超;杨柯;吴建 | 申请（专利权）人 | 常州高光半导体材料有限公司 |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董成 |
| 地址 | 213311江苏省常州市溧阳市埭头镇渡头街8-2号13幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提出的一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件，涉及蒸镀掩膜领域。该支撑掩膜版上具有若干上下贯通的蒸镀孔，蒸镀孔呈矩形阵列的形式排列；所述的蒸镀孔的上口处设置有凹槽，该凹槽从蒸镀孔的上口边缘向蒸镀孔的外围扩展；凹槽的宽度为d1，蒸镀孔的上口宽度为d2，1mm≤d1‑d2≤3mm。所述的支撑掩膜组件包括上述支撑掩膜版和掩膜框架，支撑掩膜版设置在掩膜框架的上侧。所述的蒸镀掩膜部件包括上述的支撑掩膜组件和精细金属掩膜版，精细金属掩膜版设置在支撑掩膜版的上侧。本实用新型用于蒸镀时，能够避免在显示装置的显示区域边缘产生“混色”缺陷，有利于提高显示装置的蒸镀产出良率。 |
