一种拜耳法前置脱硅缓冲槽工艺装置

基本信息

申请号 CN202121375400.2 申请日 -
公开(公告)号 CN215479773U 公开(公告)日 2022-01-11
申请公布号 CN215479773U 申请公布日 2022-01-11
分类号 C01F7/0613(2022.01)I 分类 无机化学;
发明人 李龙彪;李强;赵清法;宁新峰 申请(专利权)人 孝义市兴安化工有限公司
代理机构 太原弘科专利代理事务所(普通合伙) 代理人 赵宏伟
地址 032300山西省吕梁市孝义市大孝堡乡
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种拜耳法前置脱硅缓冲槽工艺装置,包括用于供料的磨机,所述磨机的供料一路通入1#缓冲槽,另一路通入1#加热槽,1#缓冲槽与2#缓冲槽底部通过连通管连接,连通管中央底部的支管通过料浆循环转料泵与1#加热槽连接,1#加热槽与2#加热槽一侧连接,2#加热槽另一侧与3#加热槽一侧连接,3#加热槽另一侧与出料槽一侧连接,出料槽另一侧与溶出闪蒸连接。本实用新型解决了现有技术会影响脱硅槽温度、溶出闪蒸热交换机对生产指标造成波动的问题。本实用新型能够稳定生产中溶出料浆混合比例及温度。