阵列基板、阵列基板制备方法及显示面板
基本信息
| 申请号 | CN202110531297.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113270425A | 公开（公告）日 | 2021-08-17 |
| 申请公布号 | CN113270425A | 申请公布日 | 2021-08-17 |
| 分类号 | H01L27/12（2006.01）I;H01L27/32（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 邬可荣;郑在纹;袁海江 | 申请（专利权）人 | 长沙惠科光电有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 | 代理人 | 晏波 |
| 地址 | 410300湖南省长沙市浏阳经济技术开发区康平路109号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板、阵列基板制备方法及显示面板，阵列基板制备方法包括：在基板的第一表面的非开口区域沉积无机薄膜，其中，第一表面为基板中背向基底的表面，无机薄膜为无机薄膜或者氮化硅薄膜；在无机薄膜上形成像素定义层，并去除非开口区域中的过孔区域处的像素定义层；通过湿法刻蚀工艺蚀刻过孔区域处的无机薄膜，以使无机薄膜在像素定义层边缘发生侧向侵蚀现象；蒸镀有机发光二极管层；在蒸镀形成有机发光二极管层后，蒸镀阵列基板的阴极。本发明通过工艺将有机发光二极管的阴极与辅助电级接触，实现了辅助阴极，可以改善阴极电压分布不均，以提高显示面板亮度均一性。 |
