一种薄膜沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN201220061414.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN202626284U | 公开（公告）日 | 2012-12-26 |
| 申请公布号 | CN202626284U | 申请公布日 | 2012-12-26 |
| 分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刁宏伟;彭铮;李媛媛;王巍 | 申请（专利权）人 | 上海中智光纤通讯有限公司 |
| 代理机构 | 上海泰能知识产权代理事务所 | 代理人 | 宋缨;孙健 |
| 地址 | 201108 上海市闵行区金都路4299号208室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种薄膜沉积设备，包括基片预处理部分和薄膜沉积部分，基片预处理部分中基片装入腔室、表面处理腔室和烘干腔室间由传递装置对装有基片的基片挂架进行传送；薄膜沉积部分中预热腔与传递腔之间设有高真空插板阀；烘干腔室与预热腔相连通，烘干腔室与预热腔之间设有高真空插板阀；预热腔内设有基片挂架，烘干腔室内设有将基片挂到预热腔内的基片挂架上的机械手；传递腔内设有用于将预热腔内的基片送入薄膜沉积腔的三维旋转机械手；预热腔还分别与充氮装置和抽真空装置相连。本实用新型能够避免由于外部沾污原因造成的性能下降，提高了工艺的稳定性及重复性。 |
