一种自动曝光控制系统及图像校正方法
基本信息
| 申请号 | CN202010301589.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111447373A | 公开（公告）日 | 2020-07-24 |
| 申请公布号 | CN111447373A | 申请公布日 | 2020-07-24 |
| 分类号 | H04N5/235(2006.01)I;H04N5/32(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 崔志立;李运祥;张有为;魏青 | 申请（专利权）人 | 北京纳米维景科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京汲智翼成知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 北京纳米维景科技有限公司 |
| 地址 | 100094北京市海淀区北清路68号院1号楼一层1-06 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种自动曝光控制系统及图像校正方法。该系统包括主控单元和多个自动曝光单元，主控单元和各自动曝光单元连接，各自动曝光单元之间级联连。该系统通过自动曝光单元实现对各X射线源的检测，以获得X射线的能量累积值和KV水平，并且当X射线的能量累积值达到能量阈值时，向主控单元发送自动曝光控制信号，使得主控单元根据自动曝光控制信号，调整曝光时序，达到自动曝光控制的目的的同时，使X射线单次曝光输出的能量保持相对固定，优化X射线输出不稳定的问题，从而解决多个射线源的X射线影像系统中各个射线源间X射线输出不一致的问题。 |
