一种研磨装置的清洁结构

基本信息

申请号 CN202010932925.5 申请日 -
公开(公告)号 CN112122185A 公开(公告)日 2020-12-25
申请公布号 CN112122185A 申请公布日 2020-12-25
分类号 B08B1/00(2006.01)I 分类 清洁;
发明人 史晓忠;刘洋;李雪;刘新军 申请(专利权)人 杭州兰友科技有限公司
代理机构 杭州天启智汇专利代理事务所(普通合伙) 代理人 周恩慧
地址 310052浙江省杭州市滨江区西兴街道江陵路88号5幢3层J区杭州兰友科技有限公司
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种研磨装置的清洁结构,包括研磨罐和研磨盖,以及与研磨罐配合清洁的第一清洁机构,与研磨盖配合清洁的第二清洁机构,其中研磨罐与研磨盖彼此配合,通过独立的驱动系统分部控制,其中研磨盖需要翻转,也需要研磨样品,而研磨盖需要前后运动,并且与研磨罐彼此配合。本发明能够解决现有技术中存在的不足之处,整体清洁方便,效率高。