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透明电磁屏蔽薄膜结构

基本信息

申请号 CN201920282492.6 申请日 -
公开（公告）号 CN209861471U 公开（公告）日 2019-12-27
申请公布号 CN209861471U 申请公布日 2019-12-27
分类号 H05K9/00（2006.01） 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 谢自民; 毛乃晔; 郭向阳; 陈春明; 平财明; 王庆军 申请（专利权）人 苏州蓝沛光电科技有限公司
代理机构 上海光华专利事务所（普通合伙） 代理人 余明伟
地址 215316 江苏省苏州市昆山市玉山镇城北开贵路11号3房
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供一种电磁屏蔽薄膜结构，透明电磁屏蔽薄膜结构包括：透明基底；柔性材料层，位于透明基底的上表面，且柔性材料层的上表面形成有多个凹槽结构；导磁材料层，位于各凹槽结构的底部：导电材料层，位于各凹槽结构内，且位于导磁材料层的上表面；黑化处理层，位于各凹槽结构内，且位于导电材料层的上表面。本实用新型的柔性材料层内的凹槽结构内形成导磁材料层及导电材料层，可以采用加成法电镀形成导磁材料层及导电材料层，不需要采用真空溅射工艺及刻蚀工艺，不需要昂贵的设备，不会造成材料的浪费，成本较低、生产工艺简单，不会造成环保问题，可以制备线宽更小的导磁材料层及线宽更小的导电材料层，可以实现透明。