一种蒸镀装置
基本信息
申请号 | CN202120041576.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN214300322U | 公开(公告)日 | 2021-09-28 |
申请公布号 | CN214300322U | 申请公布日 | 2021-09-28 |
分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 刘高鹏;马中生;李流民;刘航;唐鹏宇;穆欣炬 | 申请(专利权)人 | 义乌清越光电科技有限公司 |
代理机构 | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 | 代理人 | 薛异荣 |
地址 | 322000浙江省金华市义乌市北苑街道雪峰西路968号义乌科技创业园1号厂房 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供了一种蒸镀装置,包括:腔体;位于腔体内的蒸镀源;位于腔体内的样品载板,样品载板适于承载待蒸镀基板的边缘区域;位于腔体内的调温板,调温板设置于样品载板背离蒸镀源的一侧,调温板中具有间隔的加热管道和冷却管道,加热管道内部设置有加热件。调温板能够使具有较低最优成膜温度和较高最优成膜温度的功能薄膜均能在最优成膜温度沉积,提高了功能薄膜的薄膜质量,从而提高了半导体器件的性能。 |
