一种红外激光器制备多晶硅薄膜的方法
基本信息
| 申请号 | CN201710034804.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107910242A | 公开（公告）日 | 2018-04-13 |
| 申请公布号 | CN107910242A | 申请公布日 | 2018-04-13 |
| 分类号 | H01L21/02 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 郭小伟;徐文龙;杨承;李绍荣;邹渝 | 申请（专利权）人 | 南京新创力光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 常州佰业腾飞专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 康潇 |
| 地址 | 210038 江苏省南京市经济技术开发区恒达路3号科创基地502室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于多晶硅领域，具体涉及一种红外激光制备多晶硅薄膜的方法，在玻璃衬底上沉积氧化硅、氮化硅等形成缓冲层，在缓冲层上沉积非晶硅薄膜，使用红外连续激光扫描非晶硅薄膜，可以得到晶粒尺寸大，缺陷少的高质量多晶硅薄膜。 |
