改善HIT电池电极接触电阻和电导率的方法、电极制作方法

基本信息

申请号 CN201911044429.X 申请日 -
公开(公告)号 CN110854216B 公开(公告)日 2021-10-01
申请公布号 CN110854216B 申请公布日 2021-10-01
分类号 H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 张磊;段晶晶;郭明波 申请(专利权)人 上海润势科技有限公司
代理机构 上海海钧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人 姜波
地址 201104上海市闵行区春申路1955号13幢204-4室
法律状态 -

摘要

摘要 一种改善HIT电池电极接触电阻和电导率的方法、电极制作方法,包括:在硅片表面制作纳米金属层作为种子层,进行第一热处理,第一热处理采用激光选区辐照,对种子层进行扫描式辐照;在种子层表面包覆导电层浆料,导电层浆料将种子层完全覆盖,不露出不漏出种子层,并与硅片表面TCO层接触;将种子层覆盖了导电层浆料后的硅片进行第二热处理,使种子层表面的导电浆料固化,与种子层一起形成电极。本申请通过种子层第一热处理+硅片第二热处理的方式,可以显著的降低接触电阻,同时可以显著的降低副栅线的电阻率,从而大幅度降低光生电流从HIT电池基体到主栅之间的传导电阻。