改善HIT电池电极接触电阻和电导率的方法、电极制作方法
基本信息
申请号 | CN201911044429.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN110854216B | 公开(公告)日 | 2021-10-01 |
申请公布号 | CN110854216B | 申请公布日 | 2021-10-01 |
分类号 | H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 张磊;段晶晶;郭明波 | 申请(专利权)人 | 上海润势科技有限公司 |
代理机构 | 上海海钧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人 | 姜波 |
地址 | 201104上海市闵行区春申路1955号13幢204-4室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种改善HIT电池电极接触电阻和电导率的方法、电极制作方法,包括:在硅片表面制作纳米金属层作为种子层,进行第一热处理,第一热处理采用激光选区辐照,对种子层进行扫描式辐照;在种子层表面包覆导电层浆料,导电层浆料将种子层完全覆盖,不露出不漏出种子层,并与硅片表面TCO层接触;将种子层覆盖了导电层浆料后的硅片进行第二热处理,使种子层表面的导电浆料固化,与种子层一起形成电极。本申请通过种子层第一热处理+硅片第二热处理的方式,可以显著的降低接触电阻,同时可以显著的降低副栅线的电阻率,从而大幅度降低光生电流从HIT电池基体到主栅之间的传导电阻。 |
