PVD真空镀设备阴极偏压电流传导机构
基本信息
| 申请号 | CN201821713995.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208965018U | 公开（公告）日 | 2019-06-11 |
| 申请公布号 | CN208965018U | 申请公布日 | 2019-06-11 |
| 分类号 | C23C14/22（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 唐其华 | 申请（专利权）人 | 华闽南配集团股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 353000 福建省南平市延平区长沙高新园(华闽南配集团股份有限公司) | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及PVD真空镀设备阴极偏压电流传导机构，应用于传导活塞环PVD真空镀中阴极所需的电流。PVD真空镀设备阴极偏压电流传导机构，包括铜棒和工装架底板，其特征是还包括单直角铜排、双直角长铜排；单直角铜排前段与工装架底板下表面通过螺栓紧固；单直角铜排后段与双直角长铜排前段通过锁紧螺栓连接；双直角长铜排后段与铜棒上端侧部铣面通过螺丝紧固；双直角长铜排中段处于水平面内。具有以下优点：增大了铜棒上端向上传导电流的接触面，过电流能力增强；增粗了用于紧固的螺栓，铜棒与上部元件连接的接触状态改善明显；采用铜排螺栓紧固连接，电流传导状态稳定，避免了传导线路中因接触不稳定引起的发热。 |
