金属有机物化学气相沉积反应器
基本信息
| 申请号 | CN201911411224.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113122823A | 公开（公告）日 | 2021-07-16 |
| 申请公布号 | CN113122823A | 申请公布日 | 2021-07-16 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/30（2006.01）I;H01L33/32（2010.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王文;胡建正;郭泉泳;郭世平 | 申请（专利权）人 | 南昌中微半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | 上海元好知识产权代理有限公司 | 代理人 | 包姝晴;张静洁 |
| 地址 | 201201上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种金属有机物化学气相沉积反应器，包括：反应腔，顶部包括气体喷淋头，气体喷淋头包括第一输入端口、第二输入端口和第三输入端口；前驱物输送管道组，与多种前驱物源连接；前驱物汇合输入管道，与前驱物输送管道组连通，用于汇合多种前驱物，连通第一输入端口；镁前驱物输入管道，与镁前驱物源连接，且连通第二输入端口；氮前驱物输送管道，与氮前驱物源连接，且连通气体喷淋头的第三输入端口。利用所述金属有机物化学气相沉积反应器能够降低反应器的复杂度，且提高发光二极管的发光强度。 |
