一种用于真空镀膜的双开型挡板结构
基本信息
| 申请号 | CN202022034306.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212560417U | 公开（公告）日 | 2021-02-19 |
| 申请公布号 | CN212560417U | 申请公布日 | 2021-02-19 |
| 分类号 | C23C14/22(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 金炯;张金徽;王山 | 申请（专利权）人 | 浙江赛威科光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京沁优知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王丽君 |
| 地址 | 313000浙江省湖州市德清县雷甸镇白云南路866号9号楼D101室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于真空镀膜的双开型挡板结构，其技术方案要点是包括真空镀膜机架、旋转运动输出件、主动轴、从动轴、配合齿轮、挡板以及固定于真空镀膜机架上的固定板，主动轴与从动轴均转动连接于固定板上，主动轴与从动轴上均设置有配合齿轮，两个配合齿轮相互啮合，旋转运动输出件用于带动主动轴旋转，挡板设置有两个，挡板的横截面呈半圆形设置，主动轴与从动轴上分别固定连接有一个挡板。基片架位于挡板下方，基片架的两个侧壁上设置有涂料腔，涂料腔内容纳有防腐蚀涂料，基片架侧壁上还设置有刷毛层。该挡板结构对于挡板任意一侧的空间需求小，有利于减小真空镀膜设备的使用所需空间，并且能够提高挡板的使用寿命。 |
